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[其他广告] 我国精密抛光工艺受制美日:进口设备价格超千万

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  • TA的每日心情
    郁闷
    9 小时前
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    [LV.5]常住居民I

    发表于 2019-7-8 16:09:44 | 显示全部楼层 |阅读模式

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    茫茫宇宙中,一个类金属合金宇宙探测器以超光速掠过,它由被强互作用力锁死的质子与中子构成,因表面绝对光滑而可以反射一切电磁波,并且无坚不摧……这是刘慈欣在科幻小说《三体》中提到的一种名叫“水滴”的宇宙飞行器。$ B6 J! a7 b4 ~4 a
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    事实上,人类对“绝对光滑”的追求也已经从科学幻想转变为实践,比如推动“集成电路变身革命”的超精密抛光技术。像《三体》中描述的一样,当前最为先进的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)技术也已进入原子尺寸级。而当电子工业强国争相攀登或到达这一工艺巅峰之时,我们却还只能仰望。
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    8 d" U  c3 D$ t现代电子工业,超精密抛光是灵魂% r$ `) n* r1 g# C! N: r

    & \, [, e8 d0 x, g物理抛光是上世纪80年代之前最为常用的抛光技术,但是电子工业的高速发展对材料器件的尺寸、平整度提出越来越严苛的要求。当一块毫米厚度的基片需要被制成几十万层的集成电路时,传统老旧的抛光工艺已经远远不能达到要求。
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    ! F2 c, U# g7 S- G“以晶片制造为例,抛光是整个工艺的最后一环,目的是改善晶片加工前一道工艺所留下的微小缺陷以获得平行度。”中科院国家纳米科学中心研究院王奇博士向科技日报记者介绍。2 T0 v3 [. \) {. B3 Y' ?8 z

    ! L9 c5 J! K6 Q7 y. K今天的光电子信息产业水平,对作为光电子基片材料的蓝宝石、单晶硅等材料的平行度要求越来越精密,已经达到了纳米级。这就意味着,抛光工艺也已随之进入纳米级的超精密程度。
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    . t% G- h( O7 Q& R6 G超精密抛光工艺在现代制造业中有多重要,其应用的领域能够直接说明问题:集成电路制造、医疗器械、汽车配件、数码配件、精密模具、航空航天。) ^6 Q& R3 B8 {6 c5 ]7 E6 o
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    王奇说:“超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命,不仅仅是平坦化不同的材料,而且要平坦化多层材料,使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管组成的超大规模集成电路。例如人类发明的计算机从几十吨变身为现在的几百克,没有超精密抛光不行,它是技术灵魂。”- o$ i6 U0 p- D1 m5 o
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