我国半导体SiC单晶粉料和设备生产实现新突破

chenxiao1121

+ D8 A! G( p) S  d: g6 q( S6月5日，在中国电子科技集团公司第二研究所（简称中国电科二所）生产大楼内，100台碳化硅（SiC）单晶生长设备正在高速运行，SiC单晶就在这100台设备里“奋力”生长。

- }% F( W+ p+ {+ T% a" z; R$ y2 M中国电科二所第一事业部主任李斌说：“这100台SiC单晶生长设备和粉料都是我们自主研发和生产的。我们很自豪，正好咱们自己能生产了。”
0 T# e  G$ ~* o4 r
5 t: I+ p- u- M1 |5 uSiC单晶是第三代半导体材料，以其特有的大禁带宽度、高临界击穿场强、高电子迁移率、高热导率等特性, 成为制作高温、高频、大功率、抗辐照、短波发光及光电集成器件的理想材料，是新一代雷达、卫星通讯、高压输变电、轨道交通、电动汽车、通讯基站等重要领域的核心材料，具有重要的应用价值和广阔的应用前景。

" l* E6 Y( j4 x9 m* o中国电科二所第一事业部主任李斌说：“高纯SiC粉料是SiC单晶生长的关键原材料，单晶生长炉是SiC单晶生长的核心设备，要想生长出高质量的SiC单晶，在具备高纯SiC粉料和单晶生长炉条件下，还需要对生产工艺进行设计、调试和优化。”
* L8 }: x% h9 a% r" Q
' ~( r, t* r; x6 ]/ x据介绍，单晶生长炉需要达到高温、高真空、高洁净度的要求，目前国内只有两家能生产单晶生长炉，中国电科二所是其中之一。他们突破了大直径SiC生长的温场设计，实现可用于150mm直径SiC单晶生长炉高极限真空、低背景漏率生长炉设计制造及小批量生产；他们还突破了高纯SiC粉料中的杂质控制技术、粒度控制技术、晶型控制技术等关键技术，实现了99.9995%以上纯度的SiC粉料的批量生产。
2 @* a/ r' P/ ]8 I$ i
更多信息请进：维氏硬度计 https://www.bypi.cn/
2 J; T! q) j! c+ ]+ q& I