氧化硅抛光液的特点和应用领域

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　　氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。小编今天就来带大家一起了解一下氧化硅抛光液的特点和应用领域。
　　氧化硅抛光液可生产不同粒度（10——150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。具有以下特点;
　　1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的（可以生产150 nm）.
) F1 U! R# U: }8 i) u3 Y- @3 o　　2.粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品（10-150 nm）.
1 B2 e- `& O1 z  s+ ~　　3.高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污.
　　氧化硅抛光液的应用领域
　　1、 光通讯领域，配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。
　　2、 硬盘基片的抛光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
　　3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。
; g* n: d# W. u  _1 T　　4、其他领域的应用，如不锈钢、光学玻璃等领域，抛光后能达到良好的抛光效果。
　　以上就是有关氧化硅抛光液的特点和应用领域的介绍了，其实氧化硅抛光液在我们生活中也经常会被用到，作用也很多，大家要是想了解更多的话欢迎登陆圣戈班的官网进行更多的了解。