氧化硅抛光液的特点和应用领域

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　　氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。小编今天就来带大家一起了解一下氧化硅抛光液的特点和应用领域。
$ Q( M2 A* H5 |, s　　氧化硅抛光液可生产不同粒度（10——150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。具有以下特点;
　　1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的（可以生产150 nm）.
9 X/ h. I: V+ \6 y9 j! c. o　　2.粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品（10-150 nm）.
　　3.高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污.
. B7 N2 ?5 f' [* C　　氧化硅抛光液的应用领域
　　1、 光通讯领域，配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。
4 K+ Y3 y( a1 t3 g- D　　2、 硬盘基片的抛光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
- M( F- w& @/ a　　3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。
4 I$ f8 _9 t) A6 a" o3 E, \　　4、其他领域的应用，如不锈钢、光学玻璃等领域，抛光后能达到良好的抛光效果。
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